MOS管的工艺流程具体是怎么操作呢？
MOS管也叫场效应管，是电源电路中非常敏感的电子元器件，主要起开关的作用。在市场上我们见到的大大小小的品牌MOS管，除丝印之外，看上去外表都一样，大小相当，并无实质性差别。然而，要成为一颗率、高品质的MOS管，要通过各种测试以及老化。
MOS管主要的工艺流程：
1.将硅单晶切成大圆片，并加以研磨、抛光。
2.抛光后的片子经仔细清洗后，热生长一层二氧化硅层。（一次氧化）
3.用光刻技术可除漏、源扩散窗口上的二氧化硅。（一次光刻）
4.进行选择性的杂质扩散。
5.去处所有二氧化硅，重新生长一层质量良好的栅极二氧化硅层，并进行磷处理。（二次氧化+磷处理）
6.刻除漏、源引线窗口上的二氧化硅。（二次光刻）
7.在真空系统中蒸发铝。（铝蒸发）
8.反刻电极。
9.进行合金。
10.检出性能良好的管芯，烧焊在管座上，键合引线。
11.监察质量（中测）
12.封上管帽，喷漆。
13.总测。
14.打印，包装。
深圳银联宝科技电子的MOS管内置多晶硅齐纳二极管来提升静电防护能力，具有高可靠性和高稳定性，率，高EAS的能力，采用优化栅极氧化工艺及其他相关工艺，增加栅源耐电压击穿能力。
除此之外，银联宝科技MOS管还要通过七道严格测试，即温度循环测试、高压蒸煮测试、恒温恒湿测试、高温反偏测试、高温栅偏测试、功率循环测试、预处理实验。
银联宝科技确保提供给客户的每一颗电子元器件都是原装，欢迎新老客户索样测试！
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